要生產出令客戶滿意的矽橡膠製品，表麵處理（lǐ）工藝就很重要，除了印刷（shuā）之外，還有（yǒu）就是要做好防塵（chén）。因為矽膠含有靜電，這就使得產品（pǐn）很容易吸附灰（huī）塵、雜質和毛發（fā）。那麽矽（guī）膠產品怎麽去除靜電，解決表麵防塵問題呢?

　　理論上，矽膠（jiāo）表麵存有氧氣原子，帶負極（jí）和靜電，塵粒則（zé）帶有正極，因此（cǐ）塵粒和（hé）矽膠靜電表麵可互相吸引，使表麵沾塵難（nán）於清理，影響產（chǎn）品外（wài）觀（guān）。針對矽膠表麵容易沾塵的（de）問題，矽膠製品廠致力研究解決方案，結果發現，利用等離子表麵改性技術可改善有關表現，最終成功以等離子體（tǐ）輔助化學氣相沉積(PECVD)技術，達到優化產品表麵性質的效（xiào）果。

　　受靜電影響，一般矽（guī）膠容易沾塵，廠商若以傳統化學塗層方法，防塵及潤滑塗層功效隻可維持（chí）數個月。好的方法是以等離子能量將矽膠表麵的氧氣原子改性，將負極矽膠表麵改為正極，過（guò）程中使用無害的（de）有機化學品，不會排出汙染廢料，因此是清潔生產工藝。其較低靜電量特質，防塵效用高，適用於手表表帶等，亦可用於醫療（liáo）設備。

　　等離子體表麵處理技（jì）術（shù）適用於纖維（wéi）、聚合物和（hé）塑膠等物料，亦可應用於清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與（yǔ）陶瓷（cí）材料的表麵部分，改變材料表麵的物理特征。矽膠產品防塵處理環（huán）保工藝，可有效解決矽膠靜電、容易沾塵問題，延長（zhǎng）產品壽命，是一種矽膠表麵處理工藝。它可應用（yòng）於（yú）所有矽膠及相關產品。

　　高能量脈衝式等離子磁控濺射技術(HPPMS)是結合（hé）「高能（néng）量」和「脈衝式」兩大特（tè）征的新型磁控濺射係統。在鍍層過（guò）程上，電源扮演重（chóng）要的角色，采（cǎi）用「高能量（liàng）」和「脈衝式（shì）」的放電方式，可於少於2微秒的短時（shí）間（jiān），發出（chū）高達1500V輸出電壓（yā）的（de）強大能量，猶如閃電現象（xiàng）。由於過程中釋放大量的離子，消除鍍膜（mó）的內應力，因此可製成厚離子鍍層，無損產品或工件的表麵。這種方式（shì）可提高（gāo）離化率(IonizationRate)，即改善塗層（céng）在產品（pǐn）表麵的附著力。

　　高能量脈衝式等離子磁控濺射技術，能超越傳統的磁控濺射方法，製作出高質（zhì）量多於3μm的（de）厚離子鍍層。由於高能量脈（mò）衝方式有利增加離子的密度，不（bú）但加強（qiáng）鍍層與（yǔ）底材（cái）之間的接合力，亦可減低表麵粗（cū）糙度，在功（gōng）能性部件上可進一步增強耐磨性能及減少替換次數。

　　對裝飾（shì）性強的矽膠產品來說（shuō），可保（bǎo）持外觀及更耐（nài）用，因此以高能量脈衝（chōng）式製作鍍層，能有效利用等離子體，從而控製（zhì）塗層的結（jié）構，其特（tè）點（diǎn）是可沉積在光滑致密的微細結構，提升耐腐蝕性（xìng）及表麵光潔度。又或是可沉積在複雜的幾何工件之上，達（dá）致更均勻的塗層。